N+1工艺接近7纳米水平!SMIC和TSMC之间有什么差距?

数码控作者:顾小北日期:2020-05-20点击:19

为了在技术上寻求突破,SMIC已经开发了N+1和N+2工艺策略,以赶上TSMC的7纳米工艺。SMIC首席执行官梁梦松宣布,SMIC目前正在全力研发N+1流程,该流程已进入客户产品认证阶段。他还提到,与14纳米相比,采用N+1工艺的芯片性能提高了20%,功耗降低了57%,逻辑面积降低了63%,SoC面积降低了55%。

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N+1和7纳米的过程非常相似。唯一不同的是,N+1流程的性能仅提高了20%,但市场基准性能却提高了35%。“SMIC的N+1工艺面向低功耗应用”。在N+1之后,将会有N+2。这两个过程的功耗相似。区别在于性能和成本。N+2显然倾向于高性能,成本也会增加。

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人们担心,2018年5月,SMIC从荷兰ASML订购了最新的EUV平版印刷机,价值高达1.5亿美元。在全球光刻机制造商中,荷兰的ASML (ASML)是唯一一家有能力生产EUV光刻机的制造商。EUV光刻机原定于2019年初交付。然而,由于美国的阻挠,这笔交易尚未完成。

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5月19日短短半天时间,总市值近2万亿元的a股芯片市值飙升逾420亿元。在面板上,半导体密封测试和国家大型基金等指数出人意料地上涨,并迅速收复了之前的“失地”。尽管外部环境的变化增加了不确定性,但自制替代品的趋势是不可阻挡的。此外,国家大力支持发展芯片自主和科技设置和调整战略,未来科技部门仍将是布局的重点。在港股方面,中国最大的铸造公司SMIC股价上涨近8%,总市值超过1000亿港元,至1027亿港元。

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梁梦松只用了300天就实现了从28纳米到14纳米的技术飞跃,14纳米芯片的产量也从3%提高到95%。可以说,梁梦松的加入推动了SMIC国际制造业进程的跨越式发展。SMIC从28纳米到14纳米的飞跃也大大增强了国内独立芯片行业的信心。

根据财务报告,14纳米芯片仅贡献了2019年第四季度收入的1%。SMIC联合首席执行官梁梦松在今年2月举行的第四季度财务报告会议上表示,14纳米芯片的实际收入和生产能力将在2020年底实现。他还给出了扩展14纳米芯片容量的时间表:今年3月,14纳米芯片的月容量将达到4000芯片,7月计划达到9000芯片,12月计划达到15000芯片。

对于备受关注的EUV光刻机,梁梦松表示,在目前的环境下,N+1和N+2代工艺都不会使用EUV技术,N+2后的工艺在设备准备好之前不会转向EUV光刻机。

据媒体3月7日报道,SMIC国际集成电路制造(深圳)有限公司从荷兰进口的大型光刻机成功通过EPZ站的两个大门进入工厂。据悉,该机主要用于企业复工后的生产线扩建。业内人士认为,SMIC生产线的扩张预计将使公司全年收入增加约10%。

中国最大、最先进的晶圆厂SMIC在其2019年年度报告中曾表示,“2020年是SMIC新阶段的开始。”SMIC今年最重要的任务是确保14纳米芯片的顺利生产。SMIC南方是今年SMIC 14纳米芯片产能的主力军。除了20亿美元的独家资本支出之外,SMIC 5月5日宣布,通过发行人民币股票筹集的40%的资本将投资于SMIC南方运营的12英寸芯片SN1项目。

然而,与TSMC和三星相比,14纳米工艺仍有2-3代的差距,不能满足当前处理器的最高性能水平。因此,SMIC仍在开发新一代的氮+1和氮+2工艺。

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